表面技術協会第139回講演大会，電気化学会第86回大会にて当研究室の教員，学生が講演，学会発表を行いました．

・電気化学会第86回大会（京都）

大貫浩介, 國本雅宏, 本間敬之，「Zn電解析出における添加金属種の反応抑制効果に対する理論的解析」（口頭発表）

工藤亮介, ⼤⾕智博, 福中康博, 本間敬之，「ZnO形成過程に着目したZn負極表面形態の解析」（口頭発表）

 

・表面技術協会第139回講演大会（神奈川）

女部田勇介, 篠崎高知, 國本雅宏, 中井浩巳, 本間敬之，「無電解析出プロセスにおけるホルムアルデヒド及び次亜リン酸酸化反応の第一原理計算解析」（口頭発表）

C. Chen M. Sugie M. Saito H. Takahashi I. Terasaki T. Homma，「Morphology control of Cu added Bi-Sb-Te films for micro thermoelectric devices」（ポスター発表）

篠崎高知, 女部田勇介, 國本雅宏, 中井浩巳, 本間敬之，「無電解析出プロセスにおけるホルムアルデヒド酸化反応過程のAIMDによる理論的解析」（ポスター発表）

安⽥哲也, 野村凜太郎, ⼤⾕智博, 國本雅宏, 柳沢雅広, 本間敬之，「Zn アノード反応における ZnO 形成に対する添加剤効果の in situ ラマン分光解析 」（ポスター発表）

岡村雪広, Yelchur Venkata Akash, 國本雅宏, 福中康博, 本間敬之，「⾼純度シリカ精製における溶解プロセスに対するカチオン種効果の検討」（ポスター発表）